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日山科技
填通孔光剂 RS-PVF

填通孔光剂 RS-PVF

通孔搭桥脉冲电镀填孔工艺

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通孔搭桥脉冲电镀填孔工艺

RS-PVF 酸性铜是一种专门为陶瓷基板、多层板核心层的通孔填充而设计的电镀铜工艺,在垂直应用中使用不溶性阳极和脉冲整流器。在同一个镀液中,分为周期性脉冲反向搭桥电镀和直流双面填孔电镀两步进行。区别市面其他厂商的填孔电镀,RS-PVF 的优势在于两步电镀使用同一电镀母液及添加剂体系,从而使搭桥和填孔两步电镀(如下图所示)在同一电镀槽进行。


电镀镀液组成:

成分

标准浓度

浓度范围

‎CuSO4‎‎∙‎‎5H2O‎‎ (克/升)‎

220

200~250

‎98% ‎H2SO4‎‎ (克/升)‎

100

90~120

氯离子    (mg/L)

60

50~80

‎润湿剂 RS-PVF C (mL/L)‎

13

10~20

光亮剂 RS-PVF B (mL/L)

1.0

0.6~1.5

‎整平剂 RS-PVF A (mL/L)‎

3

2.0~4.5


电镀工艺参数:


标准

范围

阳极电流密度(ASD)

1.5

0.5~2.5

阴极电流密度(ASD)

3.5

1.5~5.0

正向循环脉冲时间(ms)

200

100~500

负向循环脉冲时间(ms)

40

20~100

第二步阴极直流电流

1.5

0.5~2.0

‎浴温(°c)‎

25

24~28

阳极

不溶性阳极


电镀实例(左图:陶瓷基板单面激光钻孔;右图:陶瓷基板双面钻孔):